Working student for recycling of polishing suspensions used in chemical mechanical polishing

Kurzbeschreibung der Position

Entwicklung innovativer Technologielösungen und deren Anwendung ist unser Ziel am Fraunhofer-Institut für Photonische Mikrosysteme IPMS.

Hauptaufgaben

• Vorbereitung und Charakterisierung von Nanopartikel-Suspensionen im chemischen Labor.
• Durchführung präziser Aufgaben in einer Reinraumumgebung.
• Planung und Durchführung von Polierversuchen für 300-mm-Testwafer.
• Vergleich von Polierergebnissen verschiedener Partikelsuspensionen unter Verwendung von Ellipsometrie und Profilometrie.
• Analyse und Optimierung von Polierwerkzeugoperationen.
• Datengestützte Charakterisierung.
• Dokumentation und Berichterstattung.
• Enge Zusammenarbeit mit Chemikern, Ingenieuren und Technikern.

Qualifikationen und Fähigkeiten

• Abgeschlossenes Bachelorstudium in Chemie, Materialwissenschaften, Nanotechnologie, Physik, Ingenieurwesen, Biologie oder einem verwandten Fachgebiet.
• Erfahrung mit Nanopartikel-Charakterisierung (Größenverteilungsanalyse, Zeta-Potential-Messung, morphologische Analyse).
• Erfahrung mit Oberflächen- und Dünnschichtcharakterisierung (Ellipsometrie, Profilometrie).
• Kenntnisse im Bereich Chemical Mechanical Polishing (CMP).
• Verständnis von SiO2, Si3N4 und Si-Oberflächeninteraktionen.
• Vertrautheit mit Filtrationstechniken zur Partikeltrennung.
• Gute Kenntnisse in Microsoft Office.
• Praktische Erfahrung in feuchtkemischen Laboren.
• Sehr gute Englisch- und/oder Deutschkenntnisse (C1).

Arbeitsort / Rahmenbedingungen

Die wöchentliche Arbeitszeit beträgt maximal 20 Stunden und ist flexibel zu koordinieren. Die Position ist zunächst auf 1 Jahr befristet. Eine langfristige Zusammenarbeit wird angestrebt.